美国神秘买家购15台EUV微影引发猜想

针对荷兰半导体设备供货商艾司摩尔(ASML Holdings NV)售出15台极紫外光(EUV)微影系统给一家神秘美国买家的新闻，业界分析师们分别提出了不同的反应与看法。虽然很少有人怀疑英特尔(Intel)就是买家，但这项交易的条款以及EUV是否为半导体制造准备就绪等细节仍不明朗。 EUV微影技术虽然已经用了几十年了，由于存在光源不足的缺陷，至今仍无法提供制造先进芯片所需的良率与产能。ASML长久以来已经在这方面发布了几次重要的系统升级，但最近的进展仍远低于生产目标。 就在去年秋天的英特尔开发者论坛(IDF)上，英特尔院士Mark Bohr表示，EUV“尚未准备就绪，其产能与可靠性都还未能到位。” Mark Bohr当时表示，英特尔正着眼于一种无需使用EUV的方法，能够在更具成本效益的前提下制造7nm芯片。他稍早前即针对10nm工艺发表相同的看法，不过，该公司尚未对于7nm与10nm工艺节点透露更多细节。 有的分析师认为英特尔就是ASML新闻发布中所提到的美国现有客户。不过，根据另一位分析师推测，这会是一项长期的交易，因为在15台EUV系统中有10台要到2017年以后才能出货。根据分析师指出，这项交易已经让ASML的股价上涨15%了。 其他分析师也采取更乐观的看法。“对于英特尔来说，要在10nm节点利用EUV为时已晚，目前的时机似乎更适合用于7nm，”Real World Technologies首席分析师Daid Kanter表示。 “这是对于ASML投下信心的一票，从这项订单的规模可看出，EUV即将进入大量生产；以往的交易通常只买一两台机器，主要用于实验目的，”Kanter说，“而英特尔购买EUV可望促进其他竞争对手如三星(Samsung)、Globalfoundries与台积电(TSMC)在不久的将来尽快进行系统升级，”他补充说。 然而，Kanter提醒，实际的销售交易仍然取决于EUV是否能符合性能目标。此外，他并补充说，EUV系统能否达到内存制造商更严峻的成本目标，一切也还是个未知数。 今年稍早，台积电宣布采用配备80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系统，在24小时内曝光1,000片晶圆。该公司预计在7nm工艺节点时使用EUV，但在10nm生产开始后也将尝试导入于其10nm工艺中。这项新的EUV交易显示英特尔可能也打算采取类似的计划。 无疑地，EUV是业界主要的候选技术，它能够避免当今193nm浸润式微影系统利用多种图形化步骤带来的高成本。然而，除了与光源有关的问题以外，EUV仍然面临光阻剂、光罩侦测、密度与防护膜等障碍。 本文为《国际电子商情》原创，版权所有，谢绝转载