光刻胶供应商上海新阳半年报出炉，净利同比增长316.82%！

8月19日，上海新阳发布半年度业绩报告，营收及利润均实现大幅度增长。HvMesmc

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数据显示，2021年上半年，上海新阳实现营业收入约4.37亿元，同比增加45.78%；；扣非后净利润4461.93万元，同比增长近八成，达76.42%。HvMesmc

参与中芯国际战略配售，贡献利润57.27%

上海新阳表示，公司净利润较去年同比大幅上升的主要原因是，公司通过青岛聚源参与的中芯国际战略配售，报告期内按照出资份额确认了公允价值变动收益金额7438.54万元，占利润总额的57.27%。HvMesmc

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作为国内重要的半导体材料厂商，上海新阳目前已拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，其用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术产品已达到国内领先水平。HvMesmc

报告期内，上海新阳主营业务仍然保持着规模继续扩大，技术快速提升，产品不断更新的发展趋势，晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长。分产品来看，其电子化学材料配套设备增长最快，实现营收4470.07万元，同比增长94.9%，毛利率为45.02%；电子化学材料营收达1.73亿元，同比增长48.08%，毛利率达到49.84%。HvMesmc

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在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一，在集成电路制造关键工艺材料领域芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化。HvMesmc

目前，其承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单，累计收到订单3,000余万元，实现销售1,350余万元，打破了该产品一直以来被国外公司垄断的状况。此外，公司与客户合作开发的下一代产品，也已进入批量化测试阶段，公司将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。HvMesmc

受让芯刻微32%股份，加码光刻胶业务

近年来，上海新阳正在重点布局第三大核心技术-光刻技术，并且已经立项开发集成电路制造用ArF（干法）、ArF（浸没式）、KrF（含厚膜）、I线等高端光刻胶，并布局采购了用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，用于ArF浸没式光刻胶研发的ASML XT 1900 Gi型光刻机，现已全部到厂。HvMesmc

目前，其自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单，光刻胶项目取得重大突破。HvMesmc

同日，上海新阳发布公告称，公司与上海超成科技有限公司（以下简称“超成科技”）于8月18日签署了《股权转让协议》，拟受让上海芯刻微材料技术有限责任公司（以下简称“芯刻微”）32%股权，交易价格为4800万元，转让完成后，上海新阳将持有芯刻微70%股权，超成科技持有芯刻微30%股权。HvMesmc

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据披露，芯刻微目前系上海新阳的参股子公司，主要进行ArF浸没式光刻胶项目的研发。目前，芯刻微已引进韩国知名浸没式光刻胶研发团队，建立了8人的核心研发团队，建设完成140平方米的实验室净房，购入了实验室研发相关仪器设备，购入了ASML XT 1900 Gi型光刻机，为项目的验证开发打下了坚实基础，加速推动了公司实现全品类光刻胶供应的战略目标。HvMesmc

2021年上半年，上海新阳完成向特定对象发行股票募集资金7.92亿元，发行2021年度第一期中期票据（高成长债）1亿元。再融资和双创债项目的成功发行，为公司重大在研发项目如晶圆制造用高端光刻胶、蚀刻液等项目的开展及第二生产基地项目的建设提供了充足的资金。HvMesmc

上海新阳表示，在全球正面临缺少芯片的困境下，市场对于芯片的需求空前旺盛，随着下游客户芯片产能的逐步扩大，公司发行股份及债券募集资金的到位，能加速推进公司光刻胶及其他芯片制造关键工艺材料的开发及产业化，加快关键领域材料产品的进口替代，解决国家迫切需求。HvMesmc