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日本成功引入首台ASMLEUV光刻机

近日,芯片制造领域传来重大消息:Rapidus开始安装ASMLEUV光刻机,成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司。

这一举措无疑在全球芯片产业中掀起了波澜。Djxesmc

Rapidus安装首台ASML EUV光刻机Djxesmc

12月18日,Rapidus宣布其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在位于北海道北部城市千岁的IIM-1工厂交付,并开始安装。这是日本首台用于大规模生产尖端半导体的EUV(极紫外)光刻系统。Djxesmc

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图片来源:Rapidus官网截图Djxesmc

资料显示,NXE:3800E是ASML EXE系列0.33 (Low) NA EUV光刻机的最新型号,能满足Rapidus首代量产工艺2nm的制造需求。该光刻机与0.55 (High) NA EXE平台共享部分组件,晶圆吞吐量较前款NXE:3600D提升37.5%。Djxesmc

同时,Rapidus还将引进许多半导体制造设备和运输系统,以实现2nm代半导体,而此次率先引入的便是EUV曝光设备。该试验线将于2025年4月在IIM-1开始运营,届时将在所有制造设备中引入单晶圆工艺,并着手建设新的半导体代工服务RUMS(快速统一制造服务)。Djxesmc

借力ASML,日本半导体“破釜沉舟”Djxesmc

光刻技术作为半导体制造核心,其中极紫外(EUV)光刻机是目前最先进光刻技术,能在更小尺度实现精准图案转移,是制造下一代高性能芯片的基础设备。荷兰光刻机巨头ASML是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入,使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限,从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中,EUV光刻机的作用至关重要。Djxesmc

根据双方的合作协议,ASML将在日本的Rapidus工厂安装一台EUV光刻机,并提供相关的技术支持和培训。尽管ASML一直以来将其最先进的光刻机设备主要供应给台积电和三星等公司,但此次将设备引入日本,彰显了日本对半导体技术自主化的决心。Djxesmc

资料显示,Rapidus是由索尼、丰田、NTT、三菱、NEC、铠侠和软银等八家日本企业于2022年成立的合资企业,旨在实现本地化先进半导体工艺的设计和制造。在2022年底与IBM签署了技术授权协议,目标在2027年开始实现2nm工艺的批量生产。Djxesmc

此外,据了解,Rapidus正在与IBM合作,共同推进2nm芯片的研发和生产,计划于2025年春季开发出使用尖端2nm工艺的原型芯片,于2027年大规模生产。值得一提的是,台积电也计划在2025年大规模生产2nm芯片。Djxesmc

而EUV光刻是实现2nm代半导体的关键技术之一。业界认为,对于Rapidus而言,安装ASML的EUV光刻机意味着它能够进入全球半导体制造的技术前沿,具备生产最先进的芯片的能力,以帮助其追赶台积电、三星等全球半导体巨头步伐,并有望提升日本在全球芯片市场的竞争力。Djxesmc

不过日本的半导体产业在过去几十年中缺乏足够的技术积累,导致其在先进工艺领域的竞争力相对较弱。Rapidus虽具有雄心壮志,但要在台积电和三星等巨头的竞争下脱颖而出,仍需克服技术、人才、资本等多重障碍。Djxesmc

未来,Rapidus的成功不仅关乎日本本土的产业复兴,也可能推动全球半导体产业格局的重塑。Djxesmc

责编:Elaine
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