传华为要自研光刻机？

2020-07-22 17:53:54 网络整理

近日有网友在微博爆料，华为公开招聘“光刻工艺工程师”，结合2016年申请的“一项光刻设备和光刻系统”专利，推测华为正试图为本土半导体设备造“备胎”...

近日有消息称，“华为太难了，拥有最强的国产芯片设计团队海思还不行，还要琢磨研究光刻相关技术...国内产业链在这些方面帮不上华为，华为只能自己来了！”QA1esmc

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该爆料者还表示，希望华为能够找到顶尖领域的人才，早日攻克芯片问题。QA1esmc

从这条微博附上的招聘截图来看，华为招聘“光刻工艺工程师”要求全职、不限经验，工作地点在东莞松山湖。不过截图上没有显示该职位的工资等信息。QA1esmc

针对此消息，《国际电子商情》在华为官网上没有找到该职位的招聘启事，在某招聘网站上倒是有一条华为该职位的招聘，不过该职位的招聘已经关闭。QA1esmc

而华为方也尚未就此事做出回应。QA1esmc

无巧不成书，其实华为早在4年前已经申请了一项关于光刻设备的专利。QA1esmc

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国际电子商情从“中国专利公布公告”上查询得知，该专利于2016年9月9日在中国专利局申请，申请人是华为技术有限公司，发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之，华为早在4年前就开始着手光刻机产业的相关研发。QA1esmc

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华为在专利文档中表示，本发明实施提供了一种光刻设备和光刻系统， 通过使用光开关和至少两个光子器件在基材表面形成干涉图案，可以避免平移基材，从而提高了光刻处理的效率和干涉图案的精确度。QA1esmc

据悉，当前光刻设备通过单个聚焦透镜形成干涉图案，当需要在较大的基材表面上制备周期性图案时，需要通过平移步进装置平移承载基材的支架并需要复杂的对准步骤， 由于平移步进装置价格昂贵且精确度不高， 现有的光刻设备存在处理效率较低以及形成的图案精确度不高的问题。QA1esmc

目前有关于华为自研光刻机的进度尚不明确，国际电子商情将持续关注此事后续发展。QA1esmc

责任编辑：ElaineQA1esmc

  • 你可知ASML光刻机大部分零件外购，供货商分布在全球，包含镜头、光源等等
  • 这是必然要走的一步。在当代，中国要想通过国际市场分工获得外国先进装备和技术已经是不可能的了。中国有14亿人的规模，自己完成现代制造全部自己配套是唯一正确选择。任何对别人抱有幻想的想法和做法都是错的。没有大道理，只有自己做强才是大王。探测火星都出发了，芯片全产业链独立自主不能再等和再看了，拼命也要拿下来。相信华为就是这么想也是这么做的。华为一度对欧洲还存幻想，现在看来是不行了，所以果断出手。该出手时就出手，风风火火闯九州！
  • 华为真是太累了，没有几家企业能帮上忙的，感到很无助啊。美国举国之力封杀华为。我只有尽我的一点微薄之力买华为产品支持一下。
  • 国内太看重学历了。很多人才埋没
  • 华为太难了，极端的不公平必定把华为逼成世界第一
  • 华为造光刻机，我出绵薄之力，家里继续换华为设备
  • 工艺工程师能干啥？
  • 缺啥造啥
    那缺钱……
    我有个大胆的想法
  • 可以加强 短时间内可能性不大
  • 备胎转正当然好，只是不容易啊
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