加速12英寸涂胶显影设备量产进度
据《国际电子商情》了解，众鸿是在半导体集成电路设备制造领域涉猎设备再制造、软硬件优化产能提升、核心配件维修等服务，其核心产品是专用光阻涂胶显影设备。该设备主要应用于Si、化合物半导体GaAs/ GaN/SiC等集成电路制造领域。目前，众鸿的合作客户有中芯国际、台积电、 三安集成、积塔半导体、华润上华、长电科技、通富微、塞莱克斯等公司。O2qesmc
此次签约之后，众鸿半导体将在临港产业区钻石园8-2厂房进行设备的批量生产使用。O2qesmc
根据规划，2019年，众鸿已经在临港产业区新侨产业园注册成立研发中心；2020-2022年，众鸿自研涂胶显影设备将研发完成并实现量产。此次在临港产业区钻石园新增的生产厂房，将作为众鸿设备量产基地使用。2021-2023年，众鸿将依次量产12英寸涂胶显影设备和其他半导体设备。O2qesmc
半导体设备国产化势在必行
据悉，涂胶显影设备是光刻工艺主设备之一，也是芯片制程中必不可少的处理设备。它利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为晶圆加工环节的重要工艺设备，涂胶显影设备在晶圆厂设备采购中占据重要地位。O2qesmc
2016年，中国（含台湾地区）前道涂胶显影设备的销售额约为8.57亿美元，预计该数字将在2023年达到10.26亿美元。不过，如今中国大陆地区的前道晶圆加工领域中的涂胶显影设备，主要由日本东京电子所生产。具体来看，目前在中国大陆的涂胶显影设备市场中，日本东京电子的市占率大于90%，而国内厂商的市占率仅为4%。O2qesmc
值得注意的是，《中国制造2025》中针对国产半导体制造设备提出了明确要求：在2020年结束之前，90-32nm工艺设备国产化率达50%，实现90nm光刻机国产化、封测关键设备国产化率达50%；在2025年结束之前，20-14nm工艺设备国产化率达30%，实现浸没式光刻机国产化。在经济上，启动了国家集成电路基金二期，计划针对集成电路行业注入2,000亿元资金。O2qesmc
在此背景下，众鸿半导体项目在临港产业区的新动态，受惠于优惠政策的扶持，也反应了我国半导体设备企业自身的努力。期待半导体设备的国产化进程进一步提升。O2qesmc
责任编辑：CloverO2qesmc
